JX300FP是在奥特维捷芯先进CMP设备基础上，根据行业前沿技术需求开发的领先型12英寸CMP设备。该设备配备性能优越的抛光单元，集成更先进的组合清洗技术，展现出更卓越的清洁效果。该设备可实现衬底纳米级全局平坦化，满足先进制程技术需求。

产品亮点

高产能

共有8个抛光头、3个工作台。

多分区抛头

3~8分区调压，高精度控制面型。

集成清洗单元

搭载先进的清洗技术，干进干出。